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  • CVD涂层设备: 真空双体热压炉
  • CVD: CXZT-100-20Y
  • 上架时间: 2014-11-21
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真空双体热压炉技术说明

型号:CXZT-100-20Y

一、设备情况

本电炉为周期作业式,广泛应用于大专院校、科研单位及生产单位对硬质合金、功能陶瓷、闪烁透明陶瓷、粉末冶金等在高温、高真空条件下进行热压烧结处理也可在充气保护或流动气氛下热压成形烧结,是一款多功能多用途烧结炉。

二、主要参数

1、额定功率:100KW

2、电源:380V 三相;50HZ

3、最高温度:2000℃

4、有效工作区尺寸:Ф200×350 mm(D×H)

5、压头直径:Φ85mm

6、冷态极限真空度:5×10-3Pa

7保温层:石墨毡+石墨筒

8、加热方式:石墨碳管

9仪表控温精度:±1℃

10、温度控制方式:钨铼热电偶+红外测温仪

11温度控制精度:±1℃

12、最大压力:20T(数显、自动调压、自动保压)

13、压力波动:≤±0.1MPa

14、位移精度:0.015mm

15、压力行程:0~100mm(数显、自动调压、自动保压)

16、压升率:≤2.0Pa/h

17、充气压力(微正压):≤0.03MPa(氮气,氩气及混合气体)

18、加压方式:立式、单向加压

具体技术交流,请电邮或电话联系13817293862

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