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  • CVD涂层设备: 真空纳米收集炉
  • CVD: ZN-20
  • 上架时间: 2014-11-15
  • 浏览次数: 273

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真空纳米收集炉

规格:ZN-20

上海晨鑫电炉有限公司产品说明:

一、设备特点:

    纳米粉末收集炉是在真空或充保护气体状态下,利用中频感应加热的原理实现金属与坩埚熔炼蒸发,然后利用一旋转装置收集纳米级粉末的设备,节能、产量高、粉体粒度尺寸可控、设备操作简单,设计新颖,是科研院校以及科研单位实验室理想的制备纳米粉末的设备,可以实现真空收集及真空密封。

二.主要技术参数:
1、额定功率:20KW
2、额定温度:1800℃
3、容量:    500g
4、极限真空度:5X10-3Pa
5、压升率:≤4Pa/h

6 电源:中频电源IGBT

三、结构说明

本产品由炉盖、炉体、旋转收集装置、充气系统、真空系统及高频电源控制系统等组成。

可根据你们要求非标准性设计真空炉。

  CVD涂层设备  
  CVD涂层设备